Trong máy biến áp, các yêu cầu về hiệu suất của silicon Thép Chủ yếu là:

① Mất sắt thấp, đây là chỉ số quan trọng nhất của silicon chất lượng thép tấm. Tất cả các quốc gia phân chia các loại theo giá trị tổn thất sắt, tổn thất sắt càng thấp thì cấp càng cao.

②Cái từ cường độ cảm ứng (cảm ứng từ) cao trong điều kiện từ trường mạnh giúp giảm khối lượng và trọng lượng lõi sắt của động cơ và máy biến áp, đồng thời tiết kiệm được các lá thép silic, dây đồng và vật liệu cách điện.

③ Bề mặt nhẵn, phẳng và có độ dày đồng đều, có thể làm tăng hệ số lấp đầy của lõi.

④Khả năng đục lỗ tuyệt vời và xử lý dễ dàng.

⑤ Độ bám dính và khả năng hàn của màng cách điện bề mặt tốt, có thể ngăn ngừa ăn mòn và cải thiện hiệu suất đục lỗ.

⑥ Về cơ bản không có lão hóa từ tính.

Phân loại và định nghĩa cấp của tấm thép silic

Máy biến áp thường sử dụng các tấm thép silic định hướng hạt cán nguội để đảm bảo mức hiệu suất năng lượng không tải của chúng. Các tấm thép silic định hướng hạt cán nguội có thể được chia thành các tấm thép silic định hướng hạt cán nguội thông thường, các tấm thép silic có tính thấm từ tính cao (hoặc các tấm thép silic cảm ứng từ cao) và các tấm thép silic được đánh dấu bằng laser theo hiệu suất và phương pháp chế biến. Thông thường, dưới từ trường xen kẽ (giá trị cực đại) là 50Hz và 800A, tấm thép silic có độ phân cực từ tối thiểu B800A=1.78T～1.85T của lõi sắt được gọi là tấm thép silic thông thường, được ghi là “CGO” , và B800A=1.85T trở lên Tấm thép silic được ghi là tấm thép silic có tính thấm từ cao (tấm thép silic có cảm ứng từ cao) và được ghi là “thép Hi-B”. Sự khác biệt chính giữa thép Hi-B và tấm thép silic thông thường là: kết cấu phương vị Gaussian của thép Hi-B Mức độ thép silic rất cao, nghĩa là hướng của các hạt thép silic theo hướng từ hóa dễ dàng là rất cao. Trong công nghiệp, quá trình tái kết tinh thứ cấp được sử dụng để sản xuất các tấm thép silic với hàm lượng silic là 3%. Định hướng hạt của thép Hi-B Độ lệch trung bình so với hướng cán là 3°, trong khi thép tấm silicon thông thường là 7°, điều này làm cho thép Hi-B có độ thấm từ cao hơn, thông thường B800A của nó có thể đạt tới hơn 1.88T, trong đó cải thiện kết cấu phương vị Gaussian và tính thấm từ tính làm giảm mất sắt. Một đặc điểm khác của thép Hi-B là lực căng đàn hồi của màng thủy tinh và lớp phủ cách điện gắn trên bề mặt tấm thép là 3~5N/mm2, tốt hơn so với 1~2 N/mm2 của thép silic định hướng thông thường. tấm, và sức căng bề mặt của dải thép là Lớp có sức căng cao có thể làm giảm độ rộng miền từ tính và giảm tổn thất dòng điện xoáy bất thường. Do đó, thép Hi-B có giá trị tổn thất sắt thấp hơn so với tôn silic định hướng hạt thông thường.

Tấm thép silicon được đánh dấu bằng laser dựa trên thép Hi-B và thông qua công nghệ chiếu tia laze, nó tạo ra một lực căng nhỏ trên bề mặt, tiếp tục tinh chỉnh trục từ và đạt được mức hao hụt sắt thấp hơn. Không thể ủ các tấm thép silicon được đánh dấu bằng laser, vì hiệu quả của việc xử lý bằng laser sẽ biến mất nếu nhiệt độ tăng lên.

Các tính chất vật lý của các tấm thép silic thuộc các loại khác nhau về cơ bản là giống nhau và mật độ về cơ bản là 7.65g / cm3. Đối với cùng một loại tấm thép silic, sự khác biệt chính về hiệu suất và chất lượng nằm ở hàm lượng silic và ảnh hưởng của quá trình sản xuất.